X-ray scattering from silicon surfaces

With the downscaling of integrated circuits, surface and interface roughness must be controlled to achieve those that are high-yielding. For roughness determination of high-quality surfaces and thickness control of ultrathin layers, some measurement equipment such as laser scattering, atomic force m...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Semiconductor international 1998-05, Vol.21 (5), p.81-86
Hauptverfasser: STÖMMER, R, GÖBEL, H, MARTIN, A. R, HUB, W, PIETSCH, U
Format: Magazinearticle
Sprache:eng
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