Experimental Study of Improved Nano-imprint Process by using SU-8 3000NIL Resist

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Veröffentlicht in:	Journal of Photopolymer Science and Technology 2006, Vol.19(3), pp.393-396
Hauptverfasser:	Ono, Toshiyuki, Honda, Nao, Mori, Satoshi, Kono, Yoshihiko, Sekiguchi, Atsushi
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	chemically amplified negative resist MEMS Nano-imprint Nanocomposites Nanomaterials Nanostructure Photopolymers Resists SU-8
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