Advances in Patterning Materials for 193 nm Immersion Lithography

Advances in 193 nm immersion lithography's patterning materials are discussed.

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Chemical reviews 2010-01, Vol.110 (1), p.321-360
1. Verfasser:	Sanders, Daniel P
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Chemistry
Online-Zugang:	Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:	Advances in 193 nm immersion lithography's patterning materials are discussed.
ISSN:	0009-2665 1520-6890
DOI:	10.1021/cr900244n