Optical properties of fluoride thin films deposited by RF magnetron sputtering

Fluoride thin films for 193-nm lithography were deposited by three different types of RF magnetron sputtering. Systematic analysis of the relation between optical properties and deposition conditions of these thin films is discussed.

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Applied Optics 2006-07, Vol.45 (19), p.4598-4602
Hauptverfasser:	Iwahori, Koichiro, Furuta, Masahiro, Taki, Yusuke, Yamamura, Tomoyuki, Tanaka, Akira
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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