Phase separation in SiOx films annealed under enhanced hydrostatic pressure
The effect of enhanced hydrostatic pressure (HP, (10–12) × 108 Pa) on thermally stimulated phase decomposition of silicon suboxide layers processed at 450–1000 °C was investigated by infrared spectroscopy and photoluminescence measurements. HP stimulates decomposition of non‐stoichiometric SiOx most...
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Veröffentlicht in: | Physica Status Solidi (b) 2008-12, Vol.245 (12), p.2756-2760 |
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Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
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Online-Zugang: | Volltext |
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