Phase separation in SiOx films annealed under enhanced hydrostatic pressure

The effect of enhanced hydrostatic pressure (HP, (10–12) × 108 Pa) on thermally stimulated phase decomposition of silicon suboxide layers processed at 450–1000 °C was investigated by infrared spectroscopy and photoluminescence measurements. HP stimulates decomposition of non‐stoichiometric SiOx most...

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Physica Status Solidi (b) 2008-12, Vol.245 (12), p.2756-2760
Hauptverfasser: Rudko, G. Yu, Maidanchuk, I. Yu, Indutnyy, I. Z., Misiuk, A., Gule, E. G., Shepeliavyi, P. E.
Format: Artikel
Sprache:eng
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Online-Zugang:Volltext
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