Ionization of xenon Rydberg atoms at oxidized Si(1 0 0) surfaces
The ionization of xenon Rydberg atoms excited to the lowest states in the n = 20 Stark manifold at Si(1 0 0) surfaces possessing a robust (∼10 Å) native oxide layer is investigated. The data show that a sizeable fraction of the incident atoms are ionized relatively far from the surface through enhan...
Gespeichert in:
Veröffentlicht in: | Surface science 2008-04, Vol.602 (7), p.1306-1312 |
---|---|
Hauptverfasser: | , , , , |
Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
Schlagworte: | |
Online-Zugang: | Volltext |
Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
Schreiben Sie den ersten Kommentar!