Fabrication of Self-Aligned Sub-100 nm Iron Wires by Selective Chemical Vapor Deposition

We have demonstrated the ability to fabricate and self-align sub-100 nm iron wires using a combination of silicon nitride spacer technology and selective deposition of iron and tungsten by chemical vapor deposition (CVD). The discovery of selective deposition of CVD iron, from pentacarbonyl [Fe(CO)5...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Electrochemical and solid-state letters 2006, Vol.9 (12), p.G340-G342
Hauptverfasser:	Low, Yee Hooi, Bain, Michael F., Bien, Daniel C. S., Mitchell, Neil S. J., Gamble, Harold S.
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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