Selectively etched tunnel junction for lateral current and optical confinement in InP-based vertical cavity lasers
We demonstrate a thin, selectively lateral-etched, Alln(Ga)As tunnel junction (TJ) layer as a current and optical confinement aperture in the InP-based long-wavelength vertical cavity surface-emitting lasers (VCSELs). A high etch selectivity was demonstrated by etching the aperture a distance of sev...
Gespeichert in:
Veröffentlicht in: | Journal of electronic materials 2004-02, Vol.33 (2), p.118-122, Article 118 |
---|---|
Hauptverfasser: | , , , , , , |
Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
Schlagworte: | |
Online-Zugang: | Volltext |
Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
Schreiben Sie den ersten Kommentar!