Verification of on-wafer noise parameter measurements
Using a thin film technology, we have designed and fabricated a new passive device for noise parameter measurement test instrumentation verification. The main feature specifying this device is the same order of magnitude for input-output reflection coefficients and for noise parameters, as for low-n...
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Veröffentlicht in: | IEEE transactions on instrumentation and measurement 1995-04, Vol.44 (2), p.332-335 |
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Hauptverfasser: | , , |
Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
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