Verification of on-wafer noise parameter measurements

Using a thin film technology, we have designed and fabricated a new passive device for noise parameter measurement test instrumentation verification. The main feature specifying this device is the same order of magnitude for input-output reflection coefficients and for noise parameters, as for low-n...

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:IEEE transactions on instrumentation and measurement 1995-04, Vol.44 (2), p.332-335
Hauptverfasser: Boudiaf, A., Dubon-Chevallier, C., Pasquet, D.
Format: Artikel
Sprache:eng
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