Fabrication of vanadium oxide thin film with high-temperature coefficient of resistance using V2O5/V/V2O5 multi-layers for uncooled microbolometers
Authors present a novel fabrication method for vanadium oxide thin films having good electrical properties. Through the formation of a sandwich structure of V2O5 (100 angstroms)/V (80 angstroms)/V2O5 (500 angstroms) by a conventional sputter method and post-annealing at 300 C in oxygen, a mixed phas...
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Veröffentlicht in: | Thin solid films 2003-02, Vol.425 (1-2), p.260-264 |
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Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
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Online-Zugang: | Volltext |
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