Magnetic properties of Fe-Ta-N-O film with high saturation flux density

The magnetic properties and the microstructure of Fe-Ta-N-O film prepared by the facing targets sputtering method are reported. The addition of a small amount of Ta to Fe-N-O shown to improve the thermal stability of the magnetic properties at 600 degrees C without a decrease in saturation flux dens...

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:IEEE transactions on magnetics 1990-09, Vol.26 (5), p.1500-1502
Hauptverfasser: Watanabe, Y., Oura, H., Onozato, N.
Format: Artikel
Sprache:eng
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