RIE of SiO2 in doped and undoped fluorocarbon plasmas

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Vacuum 1982-01, Vol.32 (12), p.737-745
Hauptverfasser:	Norström, H, Buchta, R, Runovc, F, Wiklund, P
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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