Optical Properties and Structure of Thin Indium Films

Thin indium films of thicknesses ranged from 15 to 100 nm are deposited onto glass substrates with rate of deposition 0.31 nm/s by evaporation technique. The structural analysis of the electron diffraction patterns shows that the films between 15 and 70 nm are of polycrystalline structure, while films with thicknesses between 90 and 100 nm have single crystalline structure. The values of refractive index, extinction coefficient, and dielectric constants are estimated in the visible region using ellipsometry technique. The energy loss spectra of the films show different peaks in the range from 1 to 3 eV which are interpreted in the light of interband transitions. Durch eine Aufdampftechnik werden dünne Indiumschichten mit Dicken zwischen 15 bis 100 nm auf Glassubstrate mit einer Niederschlagsrate von 0,31 nm/s aufgebracht. Eine Strukturanalyse von Elektronenbeugungsdiagrammen zeigt, daß die Schichten zwischen 15 und 70 nm von poly‐kristalliner Struktur sind, während Schichten mit Dicken zwischen 90 und 100 nm eine Ein‐kristallstruktur besitzen. Die Werte für Brechungsindex, Extinktionskoeffizient und Dielektrizi‐tätskonstante werden im sichtbaren Bereich mittels Ellipsometrie berechnet. Die Energieverlust‐spektren der Schichten zeigen verschiedene Maxima im Bereich zwischen 1 und 3 eV, die mit Inter‐bandübergängen interpretiert werden.