MIS structure GaAs-Ge3N4-Al

A low‐temperature method is described of obtaining MIS‐structures of the type Ge3N4–GaAs. Some results are given on the physical properties of the structures. Es wird eine Niedertemperaturmethode zur Erzielung von MIS‐Strukturen vom Typ Ge3N4–GaAs beschrieben. Einige Ergebnisse der physikalischen Ei...

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Veröffentlicht in:Physica status solidi. A, Applied research Applied research, 1976-07, Vol.36 (1), p.73-79
Hauptverfasser: Bagratishvili, G. D., Dzhanelidze, R. B., Kurdiani, N. I., Saksaganskii, O. V.
Format: Artikel
Sprache:eng
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:A low‐temperature method is described of obtaining MIS‐structures of the type Ge3N4–GaAs. Some results are given on the physical properties of the structures. Es wird eine Niedertemperaturmethode zur Erzielung von MIS‐Strukturen vom Typ Ge3N4–GaAs beschrieben. Einige Ergebnisse der physikalischen Eigenschaften dieser Strukturen werden mitgeteilt.
ISSN:0031-8965
1521-396X
DOI:10.1002/pssa.2210360107