Calculation of Secondary Defect Formation at Ion Implantation of Si

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Physica status solidi. A, Applied research Applied research, 1976-09, Vol.37 (1), p.57-64
Hauptverfasser: Morozov, N P, Tetelbaum, D I, Pavlov, P V, Zorin, E I
Format: Artikel
Sprache:eng
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0031-8965