Correlation of the Anisotropic Etching of Single-Crystal Si Spheres and Wafers

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of applied physics 1975-04, Vol.46 (4), p.1478-1483
1. Verfasser:	Weirauch, D F
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:	0021-8979