Limiting thickness hepi for epitaxial growth and room-temperature Si growth on Si(100)

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Physical review letters 1990-09, Vol.65 (10), p.1227-1230
Hauptverfasser:	EAGLESHAM, D. J, GOSSMANN, H.-J, CERULLO, M
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Exact sciences and technology Physics Statistical physics, thermodynamics, and nonlinear dynamical systems Thermodynamics
Online-Zugang:	Volltext
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