Structural relaxation of Pb defects at the (111)Si/SiO2 interface as a function of oxidation temperature : the Pb-generation-stress relationship

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Veröffentlicht in:Physical review. B, Condensed matter Condensed matter, 1993-07, Vol.48 (4), p.2418-2435
1. Verfasser: STESMANS, A
Format: Artikel
Sprache:eng
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0163-1829
1095-3795
DOI:10.1103/PhysRevB.48.2418