Dynamic behavior of hydrogen in silicon nitride and oxynitride films made by low-pressure chemical vapor deposition

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Physical review. B, Condensed matter Condensed matter, 1993-08, Vol.48 (8), p.5444-5456
Hauptverfasser:	ARNOLDBIK, W. M, MAREE, C. H. M, MAAS, A. J. H, VAN DEN BOOGAARD, M. J, HABRAKEN, F. H. P. M, KUIPER, A. E. T
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Condensed matter: structure, mechanical and thermal properties Diffusion in solids Diffusion of impurities Exact sciences and technology Physical properties of thin films, nonelectronic Physics Surfaces and interfaces thin films and whiskers (structure and nonelectronic properties) Transport properties of condensed matter (nonelectronic)
Online-Zugang:	Volltext
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