Morphology of nanostructured luminescent silicon layers

We investigated the morphology of layers formed by reaction‐induced vapor phase stain etch. The layers consist of irregularly shaped, rough regions with sizes in the order of tens of microns bounded by cracks and separated by smoother regions. The AFM images revealed sub‐micron cracks and hillocks w...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Physica status solidi. C 2004-08, Vol.1 (S2), p.S287-S290
Hauptverfasser:	de Vasconcelos, Elder A., Freire, J. A. K., Freire, V. N., dos Santos, B. E. C. A., de Azevedo, W. M., da Silva Jr, E. F.
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	68.37.Hk 68.37.Ps 81.05.Rm 81.07.Vb 81.10.Bk Conferences Cracks Etching Morphology Nanostructure Reproduction Silicon Vapor phases
Online-Zugang:	Volltext
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