Time dependent breakdown of ultrathin gate oxide

Time dependent dielectric breakdown (TDDB) of ultrathin gate oxide (

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:IEEE transactions on electron devices 2000-07, Vol.47 (7), p.1416-1420
Hauptverfasser: Yassine, A.M., Nariman, H.E., McBride, M., Uzer, M., Olasupo, K.R.
Format: Artikel
Sprache:eng
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Beschreibung
Zusammenfassung:Time dependent dielectric breakdown (TDDB) of ultrathin gate oxide (
ISSN:0018-9383
1557-9646
DOI:10.1109/16.848285