Corrigendum: “Low-thermal-budget crystallization of ferroelectric Al:HfO2 films by millisecond flash lamp annealing” [Jpn. J. Appl. Phys. 63 09SP10 (2024)]

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Japanese Journal of Applied Physics 2024-10, Vol.63 (10), p.109302
Hauptverfasser: Tanimura, Hideaki, Ueno, Yuma, Mifune, Tomoya, Fujisawa, Hironori, Nakashima, Seiji, Osaka, Ai I., Kato, Shinichi, Mikawa, Takumi
Format: Artikel
Sprache:eng
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0021-4922
1347-4065
DOI:10.35848/1347-4065/ad879f