Solution photochemistry of poly(dialkylsilanes): a new class of photoresists

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Pure and applied chemistry 1988-01, Vol.60 (7), p.959-972
Hauptverfasser:	Michl, J., Downing, J. W., Karatsu, T., McKinley, A. J., Poggi, G., Wallraff, G. M., Sooriyakumaran, R., Miller, R. D.
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Photochemistry Photoresists
Online-Zugang:	Volltext
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