Surface chemistry during plasma etching of silicon

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Pure and applied chemistry 1996-01, Vol.68 (5), p.1071-1074
Hauptverfasser:	Donnelly, Vincent M., Herman, I. P., Cheng, C. C., Guinn, K. V.
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Organic chemistry Plasma etching
Online-Zugang:	Volltext
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