Localized Plasmon Response Engineering in B- and N-Doped Graphene

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Microscopy and microanalysis 2018-08, Vol.24 (S1), p.1580-1581
Hauptverfasser: Hage, Fredrik S., Kepaptsoglou, Demie M., Hardcastle, Trevor P., Gjerding, Morten N., Winther, Kirsten T., Amani, Julian A., Hofsaess, Hans C., Thygesen, Kristian S., Ramasse, Quentin M.
Format: Artikel
Sprache:eng
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Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:1431-9276
1435-8115
DOI:10.1017/S1431927618008383