Fabrication of ultra-low antireflection SiNWs arrays from mc-Si using one step MACE
In this work, SiNWs arrays were fabricated from mc-Si wafer using one step nano-silver catalyzed chemical etching method. The effect of AgNO 3 concentration on morphology structure, antireflection property and effective carrier lifetime of textured mc-Si were carefully studied. The results indicate...
Gespeichert in:
Veröffentlicht in: | Journal of materials science. Materials in electronics 2017-06, Vol.28 (12), p.8510-8518 |
---|---|
Hauptverfasser: | , , , , , , , , |
Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
Schlagworte: | |
Online-Zugang: | Volltext |
Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
Schreiben Sie den ersten Kommentar!