Use of Supramolecular Assemblies as Lithographic Resists

A new resist material for electron beam lithography has been created that is based on a supramolecular assembly. Initial studies revealed that with this supramolecular approach, high‐resolution structures can be written that show unprecedented selectivity when exposed to etching conditions involving plasmas. Eines neues Resistmaterial, das aus einer supramolekularen Anordnung besteht, wurde für die Elektronenstrahllithographie entwickelt. Mit diesen supramolekularen Systemen wurden hochaufgelöste Strukturen geschrieben, die sich bei der Plasma‐Ätzung durch beispiellose Selektivitäten auszeichnen.