ChemInform Abstract: NaGe6As6: Insertion of Sodium into the Layered Semiconductor Germanium Arsenide GeAs

The new title compound is prepared by solid state reaction of stoichiometric amounts of Na, Ge, and As (Al2O3 crucible in evacuated silica tubes, 650 °C, 10 d).

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:ChemInform 2016-07, Vol.47 (32), p.no-no
Hauptverfasser: Khatun, Mansura, Mar, Arthur
Format: Artikel
Sprache:eng
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Beschreibung
Zusammenfassung:The new title compound is prepared by solid state reaction of stoichiometric amounts of Na, Ge, and As (Al2O3 crucible in evacuated silica tubes, 650 °C, 10 d).
ISSN:0931-7597
1522-2667
DOI:10.1002/chin.201632017