Effiziente photochemische Verfahren für die räumlich aufgelöste Oberflächenfunktionalisierung
Materialgrenzflächen – mit einem Gas, einer Flüssigkeit oder einem weiteren Feststoff – sind von enormer Bedeutung für moderne Anwendungsbereiche. Wechselwirkungen an diesen Grenzflächen lassen sich außer durch die Topologie typischerweise auch durch gezieltes Einstellen der chemischen Zusammensetzu...
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Veröffentlicht in: | Angewandte Chemie 2015-09, Vol.127 (39), p.11548-11564 |
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Hauptverfasser: | , , , |
Format: | Artikel |
Sprache: | ger |
Schlagworte: | |
Online-Zugang: | Volltext |
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Zusammenfassung: | Materialgrenzflächen – mit einem Gas, einer Flüssigkeit oder einem weiteren Feststoff – sind von enormer Bedeutung für moderne Anwendungsbereiche. Wechselwirkungen an diesen Grenzflächen lassen sich außer durch die Topologie typischerweise auch durch gezieltes Einstellen der chemischen Zusammensetzung der Materialoberfläche kontrollieren. Im Hinblick auf Gebiete wie Nanowissenschaften oder Biologie ist es besonders wünschenswert, Oberflächen mit heterogen verteilten Eigenschaften zu erzeugen. Mehr noch als Mikro‐ und Nanodruckmethoden ist die Photostrukturierung insbesondere aufgrund ihrer Vielseitigkeit oft die Methode der Wahl für hochpräzise Funktionalisierungen. In letzter Zeit fand eine Reihe neuer oder wiederentdeckter photochemischer Verfahren Anwendung für die präzise Oberflächenfunktionalisierung, mit dem Ziel, die Effizienz und Auflösung zu erhöhen und zugleich die benötigte Energie zu reduzieren. In diesem Aufsatz wird eine Zusammenfassung der neuesten Methoden vorgestellt, wobei die von uns erforschten Verfahren im Mittelpunkt stehen.
Strukturierung mit Licht: In diesem Aufsatz wird eine Reihe effizienter photochemischer Reaktionen für die ortsaufgelöste Funktionalisierung von Oberflächen vorgestellt und im Kontext alternativer Methoden diskutiert. Die zur Verfügung stehenden photochemischen Werkzeuge sind bereits sehr effizient, allerdings bleiben durch sichtbares Licht induzierte orthogonale Photoreaktionen anspruchsvoll. |
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ISSN: | 0044-8249 1521-3757 |
DOI: | 10.1002/ange.201504920 |