Fabrication of Low Dislocation Density GaN Template by Nano-channel FIELO Using Nanoimprint Lithography

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of Photopolymer Science and Technology 2013/06/25, Vol.26(1), pp.69-72
Hauptverfasser:	Okada, Akiko, Shoji, Shuichi, Shinohara, Hidetoshi, Goto, Hiroshi, Sunakawa, Haruo, Matsueda, Toshiharu, Usui, Akira, Yamaguchi, Atsushi A., Mizuno, Jun
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	dry etching hydride vapor phase epitaxy light-emitting diode nanoimprint lithography
Online-Zugang:	Volltext
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!