Study of Copolymer Properties for ArF Excimer Laser Resists

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Journal of Photopolymer Science and Technology 1997, Vol.10(4), pp.559-560
Hauptverfasser: Asakawa, Koji, Ushirogouchi, Tohru, Shida, Naomi, Okino, Takeshi, Nakase, Makoto
Format: Artikel
Sprache:eng
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Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0914-9244
1349-6336
DOI:10.2494/photopolymer.10.559