Contrast Boosted Resist Using Base-Labile Compound for Electron Beam Lithography

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of Photopolymer Science and Technology 1997, Vol.10(3), pp.377-378
Hauptverfasser:	Uchino, Shou-ichi, Migitaka, Sonoko, Yamamoto, Jiro, Murai, Fumio, Kojima, Kyoko, Tanaka, Toshihiko
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	contrast boosted resist electron beam novolak
Online-Zugang:	Volltext
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