Electroless deposition of thin-film cobalt-tungsten-phosphorus layers using tungsten phosphoric acid (H3[P(W3O10)4]) for ULSI and MEMS applications

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of the Electrochemical Society 2001, Vol.148 (3), p.C162-C167
Hauptverfasser:	SHACHAM-DIAMAND, Yosi, SVERDLOV, Y, PETROV, N
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Cross-disciplinary physics: materials science rheology Electrodeposition, electroplating Exact sciences and technology Materials science Methods of deposition of films and coatings film growth and epitaxy Physics
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