Auger sputter profiling and secondary ion mass spectrometry studies of SiO2 grown in O2/HCI mixtures
Gespeichert in:
Veröffentlicht in: | Journal of the Electrochemical Society 1984, Vol.131 (4), p.887-894 |
---|---|
Hauptverfasser: | , , , |
Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
Schlagworte: | |
Online-Zugang: | Volltext |
Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
Schreiben Sie den ersten Kommentar!