Auger sputter profiling and secondary ion mass spectrometry studies of SiO2 grown in O2/HCI mixtures

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Journal of the Electrochemical Society 1984, Vol.131 (4), p.887-894
Hauptverfasser: ROUSE, J. W, HELMS, C. R, DEAL, B. E, RAZOUK, R. R
Format: Artikel
Sprache:eng
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0013-4651
1945-7111
DOI:10.1149/1.2115722