Local temperature rise during laser induced etching of gallium arsenide in SiCl4 atmosphere

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Japanese journal of applied physics 1985-01, Vol.24 (9), p.L705-L708
Hauptverfasser: TAKAI, M, NAKAI, H, TSUCHIMOTO, J, GAMO, K, NAMBA, S
Format: Artikel
Sprache:eng
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0021-4922
1347-4065
DOI:10.1143/jjap.24.l705