Yttrium oxide thin films, Y2O3, grown by ion beam sputtering on Si

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of physics. D, Applied physics Applied physics, 2000-11, Vol.33 (22), p.2884-2889
Hauptverfasser:	Gaboriaud, R J, Pailloux, F, Guerin, P, Paumier, F
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Cross-disciplinary physics: materials science rheology Deposition by sputtering Exact sciences and technology Materials science Methods of deposition of films and coatings film growth and epitaxy Physics
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