Transport phenomena in amorphous silicon doped by ion implanted of 3d metals

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Physica status solidi. A, Applied research Applied research, 1986, Vol.95 (2), p.635-640
Hauptverfasser: DVURECHENSKII, A. V, DRAVIN, V. A, RYAZANTSEV, I. A, ANTONENKO, A. K, LANDOCHKIN, I. G
Format: Artikel
Sprache:eng
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0031-8965
1521-396X