Transport phenomena in amorphous silicon doped by ion implanted of 3d metals
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Veröffentlicht in: | Physica status solidi. A, Applied research Applied research, 1986, Vol.95 (2), p.635-640 |
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Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
Schlagworte: | |
Online-Zugang: | Volltext |
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ISSN: | 0031-8965 1521-396X |