Kinetics of implantation enhanced interdiffusion of Ga and Al at GaAs-GaxAl1-xAs interfaces

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Applied physics letters 1986-07, Vol.49 (4), p.223-225
Hauptverfasser:	CIBERT, J, PETROFF, P. M, WERDER, D. J, PEARTON, S. J, GOSSARD, A. C, ENGLISH, J. H
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Chemical interdiffusion diffusion barriers Condensed matter: structure, mechanical and thermal properties Diffusion in solids Exact sciences and technology Physics Transport properties of condensed matter (nonelectronic)
Online-Zugang:	Volltext
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