Effects on InP surface trap states of in situ etching and phosphorus-nitride deposition

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of applied physics 1987-09, Vol.62 (6), p.2370-2375
Hauptverfasser:	YOON-HA JEONG, TAKAGI, S, ARAI, F, SUGANO, T
Format:	Artikel
Sprache:	eng ; jpn
Schlagworte:	Applied sciences Exact sciences and technology Other techniques and industries
Online-Zugang:	Volltext
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