Recrystallization of Ge on SiO2 using SrF2 seed by pseudo-line electron beam annealing

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Veröffentlicht in:Japanese journal of applied physics 1987-07, Vol.26 (7), p.L1135-L1137
Hauptverfasser: YAMAGISHI, C, KIMURA, T, AKIYAMA, M, KAMINISHI, K
Format: Artikel
Sprache:eng
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Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0021-4922
1347-4065
DOI:10.1143/jjap.26.l1135