Sequential electron beam evaporated films of Tl2CaBa2Cu2Oy with zero resistance at 97 K

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Applied physics letters 1988-08, Vol.53 (5), p.406-408
Hauptverfasser:	GINLEY, D. S, KWAK, J. F, HELLMER, R. P, BAUGHMAN, R. J, VENTURINI, E. L, MOROSIN, B
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Cross-disciplinary physics: materials science rheology Exact sciences and technology Materials science Methods of deposition of films and coatings film growth and epitaxy Physics Vacuum deposition
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