Properties of Si-rich SiNx:H films prepared by plasma-enhanced chemical vapor deposition

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of applied physics 1988-10, Vol.64 (8), p.3949-3957
Hauptverfasser:	KAYA, C, TSO-PING MA, TZE-CHIANG CHEN, BARKER, R. C
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Condensed matter: structure, mechanical and thermal properties Exact sciences and technology Physics Solid surfaces and solid-solid interfaces Surface and interface dynamics and vibrations Surfaces and interfaces thin films and whiskers (structure and nonelectronic properties) Thin film structure and morphology
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