Electron and hole traps in SiO2 films thermally grown on Si substrates in ultra-dry oxygen
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Veröffentlicht in: | IEEE transactions on electron devices 1988-12, Vol.35 (12), p.2245-2252 |
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Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
Schlagworte: | |
Online-Zugang: | Volltext |
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ISSN: | 0018-9383 1557-9646 |
DOI: | 10.1109/16.8799 |