In situ detection of methyl radicals in laser chemical vapor deposition environment by resonance ionization spectroscopy

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Veröffentlicht in:Applied physics letters 1990-04, Vol.56 (14), p.1380-1382
Hauptverfasser: OKADA, T, ANDOU, H, MORIYAMA, Y, MAEDA, M
Format: Artikel
Sprache:eng ; jpn
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0003-6951
1077-3118
DOI:10.1063/1.102476