Effective techniques for ultra-high purity liquid phase epitaxial growth of Ga0.47In0.53As

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Japanese journal of applied physics 1992-07, Vol.31 (7), p.2185-2194
Hauptverfasser:	AMANO, T, KONDO, S, NAGAI, H
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Cross-disciplinary physics: materials science rheology Exact sciences and technology Liquid phase epitaxy deposition from liquid phases (melts, solutions, and surface layers on liquids) Materials science Methods of deposition of films and coatings film growth and epitaxy Physics
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