Hybrid electron cyclotron resonance-radio-frequency plasma etching of III-V semiconductors in Cl2-based discharges. I : GaAs and related compounds

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Plasma chemistry and plasma processing 1991, Vol.11 (4), p.405-422
Hauptverfasser:	PEARTON, S. J, CHAKRABARTI, U. K, KATZ, A, PERLEY, A. P, HOBSON, W. S, GEVA, M
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Chemistry Elements and non-metal compounds (oxides, hydroxides, hydrides, sulfides, carbides, ...) Exact sciences and technology Inorganic chemistry and origins of life Preparations and properties
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