Characterization of evaporated Si and SiO films by inelastic electron tunneling spectroscopy

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Veröffentlicht in:Journal of physical chemistry (1952) 1992, Vol.96 (4), p.1848-1854
Hauptverfasser: HIGO, M, NISHINO, K, KAMATA, S
Format: Artikel
Sprache:eng
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0022-3654
1541-5740
DOI:10.1021/j100183a062