Cathodic arc deposition of TiN and Zr(C,N) at low substrate temperatures using a pulsed bias voltage

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Materials science & engineering. A, Structural materials : properties, microstructure and processing Structural materials : properties, microstructure and processing, 1991, Vol.140, p.830-837
Hauptverfasser: FESSMANN, J, OLBRICH, W, KAMPSCHULTE, G, EBBERINK, J
Format: Artikel
Sprache:eng
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0921-5093
1873-4936
DOI:10.1016/0921-5093(91)90521-N