Hole confinement in MOS-gated GexSi1-x/Si heterostructures

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:IEEE electron device letters 1991-05, Vol.12 (5), p.230-232
Hauptverfasser: GARONE, P. M, VENKATARAMAN, V, STURM, J. C
Format: Artikel
Sprache:eng
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Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0741-3106
1558-0563
DOI:10.1109/55.79566